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光纖光柵 共有 86 個詞條內(nèi)容

2.2.1 干涉寫制技術(shù)

    干涉寫制技術(shù)的代表有駐波干涉技術(shù)(SWIT)、全息相干技術(shù)(HCT)。1)駐波干涉技術(shù)SWIT由K.O.Hill等人[3]首先發(fā)現(xiàn)并實現(xiàn),其光柵寫制裝置及Hill光柵(即FBG)反射光柵譜如圖2-1所示。(1)成柵機制。注入光纖的單頻入射光和從光纖另一端面返回的...[繼續(xù)閱讀]

光纖光柵

2.2.2 掩模寫制技術(shù)

    掩模寫制技術(shù)(MWT)有相位掩模技術(shù)(PMT)與振幅掩模技術(shù)(AMT)之別。1)相位掩模技術(shù)相位掩模技術(shù)亦稱相位光柵衍射相干技術(shù),由K.O.Hill等人[8]提出并實現(xiàn),其光柵寫制裝置及FBG光譜如圖2-3所示。圖2-3 相位掩模技術(shù)成柵裝置及FBG反射譜(...[繼續(xù)閱讀]

光纖光柵

2.2.3 逐點寫制技術(shù)

    逐點寫制技術(shù)(PPWT)亦稱點點寫入技術(shù),由D.D.Davis等人[10]提出并實現(xiàn),其光柵寫制裝置及利用CO2激光寫制的LPFG光譜如2-5所示。圖2-5 逐點寫制技術(shù)成柵裝置及LPFG透射譜(1)成柵機制。將聚焦激光束(如CO2激光或飛秒激光)投射到由精密機構(gòu)...[繼續(xù)閱讀]

光纖光柵

2.3.1 多次曝光寫制技術(shù)

    多次曝光寫制技術(shù)是指對光纖寫制區(qū)域進行多次曝光,以實現(xiàn)特殊需求的光纖光柵制作。該技術(shù)一般以二次曝光為主。這種技術(shù)很適用于制作均勻及非均勻的特種光纖光柵。1)掩模板二次曝光技術(shù)該技術(shù)要點為:首先,用一不透光擋板沿...[繼續(xù)閱讀]

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2.3.2 變跡曝光寫制技術(shù)

    變跡曝光寫制技術(shù)是指通過控制激光的輸出功率以及曝光區(qū)域(纖芯或包層)的掃描方式,實現(xiàn)對寫制區(qū)域折射率分布的包絡(luò)改變。該技術(shù)很適用于制作諸如切趾型、Tapered型等非均勻光纖光柵,但曝光光束的輸出功率及掃描速率須精確調(diào)...[繼續(xù)閱讀]

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2.3.3 外場作用寫制技術(shù)

    外場作用寫制技術(shù)是指在光纖曝光的同時對其施加外場作用(如應(yīng)力致拉伸或壓縮、壓力致形變或彎曲、力矩致扭曲或纏繞、溫度致膨脹或收縮等),實現(xiàn)對纖芯或包層折射率分布的控制。該技術(shù)適用于各種類型的光纖(如單模光纖、多...[繼續(xù)閱讀]

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2.3.4 光纖在線寫制技術(shù)

    光纖在線寫制技術(shù)屬于全息相干技術(shù)與逐點寫制技術(shù)的有機組合。在光纖拉制過程且纖芯未包層之前將光柵寫入光纖。改變脈沖激光功率、干涉光束的交角及光纖拉制速度,可靈活地調(diào)控光柵參數(shù)。該技術(shù)對大批量生產(chǎn)光纖光柵及在...[繼續(xù)閱讀]

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2.3.5 涂覆填充寫制技術(shù)

    采用特種介質(zhì)對光纖的表面或內(nèi)部進行周期性的涂覆或者填充處理,可以實現(xiàn)對纖芯或包層折射率分布的靈活控制,設(shè)計和研制多種類型的光纖光柵。對于涂覆材料以及填充介質(zhì)的選擇,則需根據(jù)光纖光柵的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)來決定。1)金屬襯...[繼續(xù)閱讀]

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2.3.6 腐蝕拉伸寫制技術(shù)

    腐蝕拉伸寫制技術(shù)是指采用化學(xué)腐蝕的方法對光纖進行處理,使其產(chǎn)生具有周期性的凹陷或形變,從而改變光纖的折射率分布并在應(yīng)力作用下形成光柵。通過控制光纖腐蝕時間和區(qū)域、對光纖軸向施加不同的應(yīng)力作用,可以調(diào)控光柵的...[繼續(xù)閱讀]

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2.3.7 刻槽壓力寫制技術(shù)

    刻槽壓力寫制技術(shù)是指利用精密機械加工技術(shù)刻制周期性的凹形槽對光纖進行側(cè)向施壓,從而產(chǎn)生應(yīng)力型光纖光柵效應(yīng)。該技術(shù)目前使用較少,一般僅限于實驗室研究,采用機械感生法,可以機械誘導(dǎo)長周期光纖光柵(MI-LPFG),如應(yīng)力型LP...[繼續(xù)閱讀]

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