(1) 壩體檢查應(yīng)包括以下各項(xiàng):1) 壩頂有無(wú)裂縫、異常變形等現(xiàn)象; 防浪墻有無(wú)開裂、擠碎、架空、錯(cuò)斷、傾斜等情況。2) 迎水坡護(hù)面或護(hù)坡是否損壞; 有無(wú)裂縫、剝落、滑動(dòng)、隆起、塌坑、沖刷等現(xiàn)象; 近壩水面有無(wú)冒泡、變渾等異常...[繼續(xù)閱讀]

    常規(guī)檢查方法主要為眼看、耳聽、手摸、鼻嗅、腳踩等直觀方法,或輔以錘、釬、鋼卷尺、放大鏡、石蕊試紙等簡(jiǎn)單工具器材,對(duì)工程表面和異?，F(xiàn)象進(jìn)行檢查。對(duì)安裝了視頻監(jiān)控系統(tǒng)的土石壩,可利用視頻圖像輔助檢查。檢查應(yīng)符合...[繼續(xù)閱讀]

    (1) 每次巡視檢查均應(yīng)按附錄B巡視檢查記錄表格式做好詳細(xì)的現(xiàn)場(chǎng)記錄。如發(fā)現(xiàn)異常情況,除應(yīng)詳細(xì)記述時(shí)間、部位、險(xiǎn)情和繪出草圖外,必要時(shí)應(yīng)測(cè)圖、攝影或錄像。對(duì)于有可疑跡象部位的記錄,應(yīng)在現(xiàn)場(chǎng)就地對(duì)其進(jìn)行校對(duì),確定無(wú)誤...[繼續(xù)閱讀]

    大壩在自重、水壓力、揚(yáng)壓力、冰壓力、泥沙淤積壓力及溫度等荷載作用下,會(huì)產(chǎn)生變形,變形監(jiān)測(cè)是了解大壩工作性態(tài)的重要內(nèi)容,變形監(jiān)測(cè)主要包括以下幾方面:(1) 表面變形: 為了解大壩在施工和運(yùn)行期間是否穩(wěn)定和安全,應(yīng)對(duì)其進(jìn)行...[繼續(xù)閱讀]

    滲流監(jiān)測(cè)是指對(duì)在上下游水位差作用下產(chǎn)生的滲流場(chǎng)的監(jiān)測(cè),主要包括滲流壓力、滲流量監(jiān)測(cè)。滲流監(jiān)測(cè)主要包括壩體滲流、壩基滲流、繞壩滲流和滲流量。(1) 壩體滲流: 壩體滲流監(jiān)測(cè)是為了掌握壩體浸潤(rùn)面的變化情況,如果高于設(shè)計(jì)...[繼續(xù)閱讀]

    為了解水庫(kù)大壩上游、下游水位和雨量等環(huán)境量的變化,對(duì)壩體變形、滲流等情況的影響,為其分析計(jì)算提供環(huán)境量資料,應(yīng)進(jìn)行水庫(kù)大壩的環(huán)境量監(jiān)測(cè)。環(huán)境量監(jiān)測(cè)包括上游、下游水位和雨量等。(1) 上游、下游水位監(jiān)測(cè)應(yīng)根據(jù)水文監(jiān)...[繼續(xù)閱讀]

    (1) 變形監(jiān)測(cè)用的平面坐標(biāo)及水準(zhǔn)高程,應(yīng)與設(shè)計(jì)、施工和運(yùn)行等階段的控制網(wǎng)坐標(biāo)系統(tǒng)相一致。(2) 表面豎向位移及水平位移監(jiān)測(cè),一般應(yīng)共用一個(gè)測(cè)點(diǎn)。深層豎向及水平位移監(jiān)測(cè)應(yīng)盡量與表面位移結(jié)合布置,并應(yīng)配合進(jìn)行監(jiān)測(cè)。(3) 建...[繼續(xù)閱讀]

    (1) 監(jiān)測(cè)縱斷面。土石壩表面變形監(jiān)測(cè)的監(jiān)測(cè)縱斷面一般不少于4個(gè),通常在上游壩坡正常蓄水位以上布設(shè)1個(gè) (一般在正常蓄水位以上1m處),壩頂布設(shè)1個(gè) (一般布置在下游壩肩,切不可布置在防浪墻上),下游壩坡半壩高以上布設(shè)1～3個(gè),半壩...[繼續(xù)閱讀]

    (1) 近壩區(qū)巖體監(jiān)測(cè)點(diǎn)。在兩岸壩肩附近的近壩區(qū)山體垂直于壩軸線方向各布設(shè)1～2個(gè)監(jiān)測(cè)橫斷面。每個(gè)橫斷面上布設(shè)3～4個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn),一般壩軸線或上游1個(gè),下游2～3個(gè)。(2) 滑坡體監(jiān)測(cè)點(diǎn)。在滑坡體順滑移方向布設(shè)1～3個(gè)監(jiān)測(cè)斷面,每個(gè)監(jiān)...[繼續(xù)閱讀]

    (1) 監(jiān)測(cè)設(shè)施。監(jiān)測(cè)點(diǎn)和基點(diǎn)的結(jié)構(gòu)必須堅(jiān)固可靠,且不易變形; 并力求美觀大方、協(xié)調(diào)實(shí)用。測(cè)點(diǎn)可采用柱式或墩式,其立柱應(yīng)高出壩面0.6～1.0m,立柱頂部應(yīng)設(shè)有強(qiáng)制對(duì)中底盤,其對(duì)中誤差均應(yīng)小于0.2mm。工作基點(diǎn)和校核基點(diǎn)一般采用整...[繼續(xù)閱讀]