1.2.4 沉積工藝對(duì)光學(xué)薄膜應(yīng)力的影響

1.2.4.1　薄膜應(yīng)力形成的主要機(jī)制在薄膜材料和基底材料確定以后,沉積參數(shù)和處理過(guò)程是影響薄膜應(yīng)力狀態(tài)的重要因素。表1-2-1為薄膜應(yīng)力的幾種誘因,可以看出,薄膜應(yīng)力的諸多形成和發(fā)展的因素基本都是與薄膜的制備過(guò)程相關(guān)[6～ ......（本文共 7228 字 , 18 張圖）     [閱讀本文] >>