所屬欄目:光學(xué)薄膜
軟X射線多層膜的制備較之可見光多層膜有更嚴(yán)格的技術(shù)要求。鍍膜設(shè)備必須做到:①能按原子尺度在鍍膜過程中實時控制膜厚;②膜層足夠均勻;③盡量減少界面變粗糙和兩種材料在界面處的滲透擴(kuò)散;④有足夠長的穩(wěn)定時間以適應(yīng)制備 ......(本文共 1755 字 , 2 張圖) [閱讀本文] >>