所屬欄目:光學(xué)薄膜
2.2.6.1 13.9nmMo/Si多層膜反射鏡的研制13.9nm是軟X射線激光的重要輸出波長。在極紫外光刻[15]和激光等離子體的診斷中有重要的應(yīng)用。通過前面的討論可以知道,在13nm附近Mo/Si是制備多層膜的一對很好的材料。采用Mo/Si材料對進行優(yōu)化設(shè) ......(本文共 3908 字 , 10 張圖) [閱讀本文] >>