2.4.1 傾斜沉積雕塑薄膜的基本性質(zhì)

雕塑薄膜的生長(zhǎng)過(guò)程與一般薄膜的生長(zhǎng)過(guò)程有相似之處。但是,由于斜入射沉積的陰影效應(yīng),又有其自身的特點(diǎn)。陰影效應(yīng)是斜入射薄膜結(jié)構(gòu)不同于一般薄膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)最重要的原因。如圖2-4-1所示,當(dāng)蒸發(fā)束流傾斜入射時(shí),隨著薄膜的 ......（本文共 1362 字 , 3 張圖）     [閱讀本文] >>