2.2.2 掩模寫(xiě)制技術(shù)

掩模寫(xiě)制技術(shù)(MWT)有相位掩模技術(shù)(PMT)與振幅掩模技術(shù)(AMT)之別。1)相位掩模技術(shù)相位掩模技術(shù)亦稱(chēng)相位光柵衍射相干技術(shù),由K.O.Hill等人[8]提出并實(shí)現(xiàn),其光柵寫(xiě)制裝置及FBG光譜如圖2-3所示。圖2-3　相位掩模技術(shù)成柵裝置及FBG反射譜( ......（本文共 637 字 ）     [閱讀本文] >>