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目前制作非晶硅基板通用的是5Mask工藝,即需要五道光刻工藝(如圖1所示)。圖1 五道Mask工藝步驟第一道光刻工藝:形成柵電極圖形,其主要作為掃描線走線、面板周邊配線、端子部金屬以及一些標(biāo)記圖案(標(biāo)記圖案用于接下來工序的對位 ......（本文共 811 字 ） [閱讀本文] >>
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