2.4.1 氣相沉積

1.化學(xué)氣相沉積(CVD)化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)是利用空間氣相反應(yīng)在基材表面上沉積固態(tài)薄膜的工藝技術(shù)?；瘜W(xué)氣相沉積可根據(jù)氣相反應(yīng)的激發(fā)方式不同分為:熱化學(xué)氣相沉積(TCVD)、放電激發(fā)氣相沉積(如等離子體PACVD)、輻射 ......（本文共 3174 字 , 3 張圖）     [閱讀本文] >>