陣列式鈮酸鋰電光調(diào)制器偏置點(diǎn)控制技術(shù)研究（特邀）

摘要： 受材料自身特性的影響，電光調(diào)制器的偏置工作點(diǎn)會(huì)隨環(huán)境改變發(fā)生漂移，從而影響調(diào)制器的調(diào)制效果。針對(duì)鈮酸鋰馬赫-曾德爾電光調(diào)制器偏置點(diǎn)漂移的問題，研究適用于四陣列平行式電光調(diào)制器偏置點(diǎn)控制技術(shù)，提出了一種結(jié)合光功率和擾動(dòng)信號(hào)幅值檢測(cè)的控制方法，采用時(shí)分復(fù)用、增益幅值可調(diào)、雙模式識(shí)別等方法有效減少了硬件冗余，實(shí)現(xiàn)了對(duì)偏置工作點(diǎn)的精確控制。 （共8頁）