中國技術(shù)創(chuàng)新的大規(guī)?？臻g集聚與趨勢

摘要： 文章根據(jù)“企知道”專利微觀數(shù)據(jù)，使用標(biāo)準(zhǔn)差橢圓、相對集聚系數(shù)、正六邊形格網(wǎng)方法，以國土空間與專利區(qū)位空間為參照基準(zhǔn)，分析了2009—2020年中國戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)專利的大規(guī)?？臻g集聚的水平、形態(tài)、模式及變化趨勢。結(jié)果表明：(1)中國發(fā)明專利總體呈現(xiàn)出向東南移動、集中化與集聚化的趨勢，其標(biāo)準(zhǔn)差橢圓面積收縮了14.37%，相對集聚系數(shù)增長了8.94%。(2)中國發(fā)明專利總體呈現(xiàn)集中式...