微型熱陰極性能及理論分析

摘要： 為了滿足高頻段真空器件對陰極提出大電流密度、小電子注尺寸的需求，本文利用聚焦離子束刻蝕技術(shù)在通過雙離子束輔助沉積技術(shù)沉積了鋯抑制膜的浸漬鈧酸鹽陰極表面上制備出發(fā)射面直徑為100μm的微型陰極.實驗結(jié)果顯示：沉積的鋯抑制膜在370 h內(nèi)有效抑制了陰極的電子發(fā)射；當(dāng)溫度為950℃，其發(fā)射面的平均電流密度可達到43 A/cm2；當(dāng)溫度為1 000℃時，發(fā)射區(qū)域平均電流密度為58 A/...