原子級電子斷層成像技術(shù)進(jìn)展及應(yīng)用

摘要： 基于電子顯微學(xué)的原子級三維重構(gòu)技術(shù)對揭示材料的微觀結(jié)構(gòu)，加深材料結(jié)構(gòu)和性能關(guān)系的理解具有極為重要的意義。原子級電子斷層成像技術(shù)(atomic electron tomography, AET)作為當(dāng)前最先進(jìn)的三維重構(gòu)技術(shù)之一，已先后成功表征了納米顆粒中原子位置、晶體缺陷、早期形核過程中原子的動態(tài)變化及非晶態(tài)固體的三維原子結(jié)構(gòu)。本文綜述了AET的流程及應(yīng)用的突破，以期望讀者了解A...