基于改進(jìn)Gerchberg-Saxton算法的全息雙面光刻方法

摘要： 針對(duì)目前雙面微器件加工方法步驟繁瑣、效率低的問(wèn)題，提出基于改進(jìn)Gerchberg-Saxton(GS)算法的全息雙面光刻方法，使用單個(gè)光源在玻璃基底的上下表面同時(shí)曝光，進(jìn)行雙面圖形的制作。該方法通過(guò)計(jì)算不同軸向位置圖案對(duì)應(yīng)的組合全息圖，并將其加載到空間光調(diào)制器（LCOS-SLM）上，對(duì)入射光場(chǎng)進(jìn)行調(diào)制，從而在目標(biāo)空間內(nèi)實(shí)現(xiàn)雙面圖形重現(xiàn)。采用改進(jìn)GS算法對(duì)距離焦面2 mm處的圖案...