陰離子表面活性劑及復(fù)配對阻擋層拋光液性能的影響

摘要： 為提高銅互連化學(xué)機械拋光(CMP)后表面質(zhì)量，在拋光液中需引入適當?shù)谋砻婊钚詣┮愿纳颇チ系姆€(wěn)定性以及CMP后銅的表面粗糙度。研究了十二烷基硫酸銨(ADSA)、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸銨(AESA)、直鏈烷基苯磺酸(LABSA)3種不同陰離子表面活性劑，以及非離子表面活性劑脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-9)和LABSA復(fù)配表面活性劑對鉭阻擋層拋光液潤濕性、分散性以及對材料去除速率的影響。...