大氣壓等離子體射流放電參數(shù)對沉積氧化鈦薄膜特性的影響

摘要： 大氣壓等離子體增強化學氣相沉積(AP-PECVD)功能薄膜技術受到廣泛的關注，但等離子體的作用機理仍有待進一步探討。利用針-板電極大氣壓電暈Ar等離子體射流，在不同放電頻率條件下，對單、雙脈沖的放電參數(shù)及沉積TiO₂薄膜的性質(zhì)進行比較，闡明了脈沖放電特性對等離子體參數(shù)和TiO₂薄膜生長的影響，進而推斷AP-PECVD中等離子體的作用機理。結(jié)果表明：單個電壓周期內(nèi)，放電電流呈...