提高單晶薄膜濾波器片內(nèi)頻率一致性的研究

摘要： 研究了常規(guī)光刻工藝下單晶薄膜晶圓制備聲表面波濾波器的頻率分散特性。結(jié)果表明，壓電單晶薄膜的表面色差是引起頻率分散性惡化的根本原因，采用抗反射膜工藝抑制襯底反射以及分區(qū)曝光工藝對不同色塊進(jìn)行曝光補(bǔ)償，均能有效地提高片內(nèi)頻率一致性，頻率2 MHz內(nèi)包含最大器件數(shù)量占比，從常規(guī)曝光的48.81%提高到抗反射膜工藝的53.57%和分區(qū)曝光工藝的70.24%。