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Ni摻雜對β-Cu2Se薄膜微觀結(jié)構(gòu)和熱電性能的影響

稀有金屬 頁數(shù)： 13 2024-03-15
摘要： 采用磁控濺射的方法和粉末真空燒結(jié)的Cu-Se合金靶材，使用高真空磁控濺射技術(shù)在單晶Si(100)襯底上制備摻雜Ni的β-Cu2Se熱電薄膜。利用X射線衍射儀（XRD）、掃描電子顯微鏡（SEM）、電子探針和能譜儀（EDS）分別研究薄膜的相組成、表面和截面形貌、微區(qū)元素含量與分布。利用塞貝克（Seebeck）系數(shù)/電阻分析系統(tǒng)LSR-3測量沉積薄膜的Seebeck系數(shù)和電阻率，研...

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