立式霧化輔助CVD系統(tǒng)的設計與實現(xiàn)

摘要： 霧化輔助化學氣相沉積(CVD)技術是一種高質(zhì)量氧化物薄膜的低成本制備方法。設計并搭建了一套立式霧化輔助CVD系統(tǒng)，該系統(tǒng)包含了霧化源、立式反應腔體、加熱、水冷和尾氣處理模塊。采用該系統(tǒng)制備了SnO₂薄膜，采用X射線衍射儀(XRD)對薄膜樣品進行分析，并用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察樣品表面形貌。實驗結(jié)果表明：采用所設計的立式霧化輔助CVD系統(tǒng)制備出了沿(200)晶面生長的Sn... （共6頁）