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 掩模寫制技術(shù)(MWT)有相位掩模技術(shù)(PMT)與振幅掩模技術(shù)(AMT)之別。1)相位掩模技術(shù)相位掩模技術(shù)亦稱相位光柵衍射相干技術(shù),由K.O.Hill等人[8]提出并實現(xiàn),其光柵寫制裝置及FBG光譜如圖2-3所示。圖2-3 相位掩模技術(shù)成柵裝置及FBG反射譜( (共 637 字) [閱讀本文] >>