
 如果通過高溫的化學(xué)氣相沉積CVD在異質(zhì)襯底上沉積Si薄膜,典型的晶粒尺寸在μm量級(jí)。到目前為止,運(yùn)用傳統(tǒng)晶體硅薄膜太陽(yáng)能電池工藝,將這種Si薄膜制備為p-n結(jié),得到的最高轉(zhuǎn)換效率低于6%[26,53,54]。但是,通過固相再結(jié)晶或液相再結(jié)晶 (共 1961 字) [閱讀本文] >>
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 如果通過高溫的化學(xué)氣相沉積CVD在異質(zhì)襯底上沉積Si薄膜,典型的晶粒尺寸在μm量級(jí)。到目前為止,運(yùn)用傳統(tǒng)晶體硅薄膜太陽(yáng)能電池工藝,將這種Si薄膜制備為p-n結(jié),得到的最高轉(zhuǎn)換效率低于6%[26,53,54]。但是,通過固相再結(jié)晶或液相再結(jié)晶 (共 1961 字) [閱讀本文] >>