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掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù) 共有 43 個詞條內(nèi)容

一、形貌襯度

    表面形貌襯度是指利用對樣品表面形貌特別敏感的信號成像而得到的襯度。二次電子和背散射電子均可以提供形貌襯度,這是掃描電鏡中最常用的圖像襯度。1.二次電子像的形貌襯度二次電子主要來自表面下<10nm的淺層區(qū)域,它的強(qiáng)...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

二、成分襯度

    電子束與樣品相互作用產(chǎn)生某些與樣品微區(qū)原子序數(shù)或化學(xué)成分有關(guān)的物理信號,例如背散射電子、吸收電子和特征X射線。檢測這些信號成像,可以顯示出微區(qū)內(nèi)化學(xué)成分或原子序數(shù)的差異,這稱為成分襯度像。1.背散射電子像的成分...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

一、襯度閾

    當(dāng)收看某個遠(yuǎn)方電視臺節(jié)目時,熒光屏上會出現(xiàn)很多雪花狀噪聲,重疊在圖像上,亮度起伏不定,從而掩蓋了圖像細(xì)節(jié),常言道“信號太弱”,就是這種隨機(jī)噪聲限制了信息量。掃描電鏡成像同樣存在這個問題,解決的方法是設(shè)法提高信噪比...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

二、分辨率限度

    圖5-1 兩個最近像點(diǎn)的間距分辨率是掃描電鏡的重要指標(biāo),通常定義為可分辨開的兩個最近物點(diǎn)的距離。通常利用測量分辨率的標(biāo)準(zhǔn)樣品,拍攝二次電子像,在圖像上測量可分辨開的兩個最近像點(diǎn)的間距bmin(見圖5-1),除以放大倍率M,即為...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

三、電子束斑直徑與束流的關(guān)系

    電子束的最終束斑尺寸dp直接影響圖像分辨率。人們總希望電子光學(xué)系統(tǒng)可以提供最小的束斑dmin,又可獲得最大的束流imax,這就必須建立imax~dmin之間的關(guān)系。最終束斑直徑dp從公式(5.2)導(dǎo)出:將各直徑分別代入上式:前兩項(xiàng)為衍射和球差...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

四、操作要點(diǎn)

    現(xiàn)代掃描電鏡的操作步驟大部分由計算機(jī)控制,使用者把樣品放入儀器,抽真空、加高壓、調(diào)焦和變倍、圖像亮度和襯度自動調(diào)節(jié)、拍照和記錄圖像。整個過程很簡單。但是,為了獲得滿意的圖像,在使用儀器前,應(yīng)該根據(jù)研究課題的要求...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

一、低電壓成像技術(shù)

    掃描電鏡通常使用10kV~30kV加速電壓工作,可獲得優(yōu)質(zhì)圖像;微區(qū)成分分析也能提供可靠的定性定量結(jié)果。然而對于某些熱敏或者導(dǎo)電性能差的樣品,例如:半導(dǎo)體和器件、合成纖維、濺射或氧化薄膜、紙張、動植物組織、高分子材料等...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

二、低真空成像技術(shù)

    對于某些導(dǎo)電性差的材料,例如半導(dǎo)體、集成電路、印制板、電腦零件、紙張、纖維,或者含水的動植物樣品,要求直接觀察微觀形貌,使用常規(guī)高真空掃描電鏡受到限制?,F(xiàn)在各電鏡廠家均可提供低真空(Lowvacuum)或可變壓力(Variablepres...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

三、環(huán)境掃描成像技術(shù)

    掃描電鏡的發(fā)展極大地豐富了科學(xué)家在材料和生命科學(xué)方面的知識,而環(huán)境掃描電鏡(Environmentalscanningelectronmicroscope,簡稱ESEM)的開發(fā)又是技術(shù)的重大突破,拓寬了電子顯微技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域。早在1987年,澳大利亞科學(xué)家提出了環(huán)境電鏡的理...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)

四、電子背散射衍射技術(shù)

    電子束入射樣品時產(chǎn)生大量背散射電子,如果是無定形樣品,背散射電子像的襯度與入射電子束方向關(guān)系不大,但在晶體樣品中,存在一種與晶體取向相關(guān)的襯度像,這就是背散射電子衍射(Electronbackscatterdiffraction,簡稱EBSD)現(xiàn)象。這種襯度...[繼續(xù)閱讀]

掃描電鏡與能譜儀分析技術(shù)
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